如今，電子產(chǎn)品已經(jīng)成為人們?nèi)粘Ｉ钪胁豢苫蛉钡闹匾ぞ撸?電子產(chǎn)品上產(chǎn)生的數(shù)據(jù)量也隨著大數(shù)據(jù)、 云計(jì)算等技術(shù)的快速發(fā)展而急速膨脹。IDC 報(bào)告顯示，預(yù)計(jì)到 2020 年全球數(shù)據(jù)總量將超過 40ZB(相當(dāng)于 4 萬億 GB)，這一數(shù)據(jù)量是 2011 年的 22 倍。在過去幾年，全球的數(shù)據(jù)量以每年 58%的速度增長，在未來這個(gè)速度會(huì)更快。

  電子行業(yè)的電路板清洗，單晶硅，半導(dǎo)體片切割制造，半導(dǎo)體芯片，半導(dǎo)體封裝，引線柜架，集成電路，液晶顯示器，導(dǎo)電玻璃，顯像管，線路板，光通信，電腦元件，電容器潔凈產(chǎn)品及各種元件生產(chǎn)工藝用水都需要用超純水。

  超純水(UPW)是指電阻率達(dá)到18 MΩ·cm(25℃)的水。這種水中除了H2O外，幾乎沒有什么雜質(zhì)或其他離子。超純水可以分為國標(biāo)《電子級(jí)水》和美標(biāo)《電子和半導(dǎo)體超純水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》。萊特萊德能夠?yàn)橛脩籼峁└鼉?yōu)品質(zhì)的超純水可以解決上述純水清洗芯片寸在的問題，更好的提升芯片的良品率。

  傳統(tǒng)的超純水制取工藝缺點(diǎn)在于樹脂在使用一段時(shí)間以后要經(jīng)常再生。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，無錫哈達(dá)環(huán)保采用反滲透工藝，即采用反滲透后面再經(jīng)過EDI及拋光混床工藝來制取超純水，出水電導(dǎo)率終可達(dá)18.2MΩ，滿足了芯片行業(yè)的用水需求。無錫哈達(dá)環(huán)保致力于水處理設(shè)備多年， 接下來給大家分享一下哈達(dá)環(huán)保的超純水工藝優(yōu)勢(shì)。 

      無錫哈達(dá)環(huán)保純水設(shè)備工藝優(yōu)勢(shì)

  1、超純水設(shè)備可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水，無需因樹脂再生而停機(jī)。

  2、采用獨(dú)有的靶向離子交換系統(tǒng)針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。

  3、系統(tǒng)集成度高，雙操作系統(tǒng)，更高系統(tǒng)穩(wěn)定性。

  4、日常保養(yǎng)維護(hù)簡單方便，設(shè)備耐用，壽命長。

 無錫哈達(dá)純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合半電子行業(yè)的用水標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備具有結(jié)構(gòu)合理簡單、連續(xù)運(yùn)行、操作方便、、自動(dòng)化程度高、使用壽命長、自動(dòng)化運(yùn)行、占地面積小、出水水質(zhì)高等優(yōu)勢(shì)。